蒸着用マスクの微小変形解析

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蒸着用マスクの微小変形解析(PDF)

背景

1. 目的
   有機ELディスプレイ製造用の蒸着マスクは微小な変形が画素形成に影響を及ぼすため、変形を抑制可能な設計が求められる。解析によって収縮量の予測と対策の立案を実施したい。
2. 課題
   ・薄膜形成時の残留応力のモデル化
   ・解析精度の検証
   

まとめ

• 薄膜の残留応力を熱収縮力で代替し、材料定数は均質化手法により微細な開口構造を考慮した材料定数をもちいることで実測の変形量をほぼ模擬することができる解析モデルを作製することができた。
• 解析モデルを用いて、変形の要因分解、抑制方針の立案、顧客への説明を理論立てて実施することができるようになった。

シミュレーション機器のご利用方法

山形県工業技術センターに設置しているシミュレーション機器の一部を、 有料でお使い頂くことができます。基本的にお客様ご自身に機器を操作していただきます。初めてのご利用、もしくは経験が浅く不安な時は、担当職員がお手伝いします。